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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述:Vision 310等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)--PTI 790+ 系列的延續(xù),延續(xù)了服務(wù)于多樣化市場(chǎng)的成功經(jīng)驗(yàn)

  • 產(chǎn)品型號(hào):Vision 310
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:
  • 更新時(shí)間:2025-09-04
  • 訪  問  量: 226

詳細(xì)介紹

1.靈活的沉積能力

·等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅(a-Si)、碳化硅(SiC

·等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)研究與開發(fā)

·等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)原型制作

·等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)小批量生產(chǎn)-光子學(xué)、固態(tài)照明、MEMS和納米技術(shù)

·等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域:層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層


2.性能價(jià)值

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)1.大尺寸手動(dòng)裝載載物臺(tái)(406mm)

2.出色的潔凈度

3.高均勻性

4.高吞吐量 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)

5.可靠的軟件

6.小巧的占地面積

7.具有成本效益

8.易于維護(hù)

9.采用行業(yè)頭部組件


3.經(jīng)過驗(yàn)證的解決方案

·廣泛的“交鑰匙"工藝

·通過優(yōu)化的噴淋頭實(shí)現(xiàn)高薄膜均勻性

·高標(biāo)準(zhǔn)的利用率和可靠性--采用一級(jí)(Tier Ⅰ)OEM組件、快速抽真空、可選原位終點(diǎn)檢測(cè),避免過度清洗

·享有認(rèn)可的服務(wù)與支持

·通過低頻或氦氣稀釋實(shí)現(xiàn)應(yīng)力控制


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